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湖北武汉三维扫描设计哪里有?三维产品正逆向设计

更新时间:2017-03-21 12:22:13 浏览次数:156次
区域: 武汉 > 蔡甸 > 蔡甸
类别:工业设计
地址:湖北省武汉市武汉经济开发区武汉设计广场
  湖北武汉三维扫描设计哪里有?三维产品正逆向设计
  1.总体技术要求
  *扫描方式:激光手持照相式
  *扫描技术:激光线网格扫描技术
  帧扫描区域:250mm×230mm
  景深:250mm
  工作距离:300mm
  *扫描速率:240000次/秒
  扫描分辨率:0.050 (毫米)
  *测量精度:较高0.03 mm
  *体积精度:0.020 + 0.100(毫米/米)
  体积精度(结合DigiMetric):0.020 + 0.025(毫米/米)
  测量范围(物件尺寸):0.1 ~6米,可扩展
  传输方式:USB3.0
  工作温度:-10 - 40℃
  工作湿度:10 - 90 %
  2.三维光学扫描系统配置与功能要求
  (1) 数据采集传感器:高速、高精密工业级相机2台
  (2)内置微惯性传感器,实时输出设备位姿;
  (3)测量光源:6 束交叉激光线,激光级别ClassII(人眼安全),波长大于600纳米
  (4)计算机系统:支持windows 7,32位和64位操作系统,支持内存16G以上
  (5)拼接方式:系统整合“专业模式”全自动标志点拼接模块
  (6)全局误差控制方式:系统整合GREC Pro全局误差控制模块
  (7)使用方便:整个过程全部手持完成,无需三脚架等支撑装置
  (8)所测量的物体表面可不做任何形式(如贴标识和喷白)的预先处理
  (9)普通环境下可以测量鎏金等高光亮物体以及黑色物体
  (10)防抖设计:采用先进的防抖动算法,防止扫描过程中人为的抖动对误差的影响
  3.三维光学扫描系统软件功能要求
  * 全中文软件界面
  * 自适应形面扫描模块
  (1) 自动调节系统参数,自适应各种材质/颜色表面的不同扫描对象,无需手动调节;
  (2) 可变点距扫描,在同一次扫描中,可对点距进行灵活设置和改变,同时满足高速扫描以及精细扫描的需求
  * 自动拼接模块
  (1) 智能标志点识别技术:系统自动跟踪识别标志点;
  (2) 惯性—光学混合式传感器定 位技术,实时将数据自动配准到同一坐标系;
  (3) GREC Pro全局误差控制模块,可对拼接后的误差进行全局控制;
  *全局框架扫描模块
  (1)全局框架扫描技术,对框架点累积误差进行全局控制;
  (2)兼容DigiMetric系统,搭载全局摄影测量技术可将扫描范围扩展至几十米;
  点云处理模块
  扫描数据后,可进行点云噪声处理及修剪
  基于曲率的点云精简功能
  自动生成三角面
  数据输入输出
  导出结果为ASC,STL,OBJ,OKO等格式数据输出接口广泛,测量结果可与CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程软件自由交换数据。
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